国产替代半导体龙头股票利好 中芯国际科创板上市受理
据上交所网站,中芯国际集成电路制造有限公司科创板上市申请已获受理。中芯国际计划融资200亿元,投向12英寸芯片SN1项目、先进及成熟工艺研发项目储备资金、补充流动资金。
华创证券指出,中芯国际近年来与国产设备、材料、设计厂商密切合作,已成为国产IC产业生态中的航母型公司。中芯国际回归A股融资投入先进制程,有利于加快产线建设,加大研发投入力度,进一步缩小与台积电、三星的技术差距。随着中芯国际14nm逐步大批量量产和扩产,半导体国产替代进程也将进入新阶段。
北方华创(157.250, 5.25, 3.45%)(002371)是国内产品线最为全面的电子工艺装备供应商。
至纯科技(32.750, 1.32, 4.20%)(603690)主营半导体清洗设备,完成了多个工艺的8英寸及12英寸全自动槽式装备,已有6台装备在中芯国际投入使用。
江丰电子(54.920, 0.97, 1.80%)是中芯国际主要的靶材供应商之一。
其他公司:长电科技(30.500, 1.47, 5.06%)、中微公司(226.600, 9.49,4.37%)、安集科技(320.000, 25.00, 8.47%)。
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这是中国半导体业的重磅大事。
1.中芯国际在港股的市值,才800多亿,A股不像港股的低估值,以中芯国际在中国大陆的龙头地位,一旦在科创板上市,估值高出40%以上是大概率。
这可能会带动大陆半导体制造业的估值。更何况巨大的国产替代空间。
2.中芯国际的技术研发,在梁孟松来后,进展神速。
此次募集的资金,主要用于中芯国际南方,就是14到7nm都可用的那个产线。
14nm量产和N+1(相当于8nm)的客户验证,是中芯国际技术上的巨大飞跃进步。因为这等于甩过了GF和联电,从此进入晶圆代工技术上第三名的阵营。
中芯国际FinFET N+1 和 N+2 制程都不需要用到 EUV 光刻机。台积电第一代7nm是用DUV+多重曝光技术做的。所谓多重曝光,简单说上一次曝光留下的介质层(SiO2\Si3N4)是下一次曝光的遮挡层的一部分。曝光次数越多,光罩成本越高,反复刻蚀良率越不好控制。EUV光刻机主要为7nm以下工艺准备,包括5nm,3nm。采购EUV光刻机来做7nm,主要是出于成本和良率的考虑,而非必须要用EUV才能做7nm。
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